Die Intel Corporation (Börse Frankfurt: INL) hat gestern das nach eigenen Angaben weltweit erste Forschungslabor für 300 Millimeter Wafer in Hillsboro, US-Staat Oregon, eröffnet. Die 250 Millionen Dollar teure Einrichtung trägt den Namen RP1 (wobei RP für Research und Pathfinding steht). Die RP1 ist die erste Einrichtung, die sich mit der Forschung im Bereich Silizium-Prozesstechnologien bei neuen und größeren Wafern beschäftigt.
Die Forscher nutzen die RP1 für die Entwicklung zukünftiger Fotolithografie, für Tests an hochleistungsfähigen Transistoren und fortschrittlichen Interconnects (Kupfer und optisch) sowie für die Verwendung neuer, umweltschonender Materialien und Chemikalien bei der Herstellung von Halbleitern.
Das Intel Components Research Lab entwickelt Siliziumtechniken, die Intels derzeitigen Fertigungsprozessen zwei bis drei Generationen voraus sein sollen. Die RP1 ist mit einem 5200 Quadratmeter großen Reinraum ausgestattet und wurde neben Intels D1C Entwicklungsfabrik und der Massenfertigungsfabrik Fab 20 errichtet.
Kontakt:
Intel, Tel.: 089/9914303 (günstigsten Tarif anzeigen)
Check Point warnt vor offener Schwachstelle, die derzeit von Hackern für Phishing ausgenutzt wird.
Video-Babyphones sind ebenfalls betroffen. Cyberkriminelle nehmen vermehrt IoT-Hardware ins Visier.
Der Downloader hat hierzulande im April einen Anteil von 18,58 Prozent. Im Bereich Ransomware ist…
Unternehmen greifen von überall aus auf die Cloud und Applikationen zu. Dementsprechend reicht das Burg-Prinzip…
Hacker nutzen eine jetzt gepatchte Schwachstelle im Google-Browser bereits aktiv aus. Die neue Chrome-Version stopft…
Microsoft bietet seit Anfang der Woche einen Patch für die Lücke. Kaspersky-Forscher gehen davon aus,…