Neues Verfahren soll schnellere Chip-Produktion ermöglichen

Mit UV-Licht könnten Chips mit 0,07 Micron und kleiner realisierbar werden

„Extreme Ultraviolet Lithography“ nennt sich das Chip-Herstellungsverfahren der nächsten Generation. Das Forschungsunternehmen EUV LLC entwicklete einen Herstellungsprozess, der eine 0,07 Micron-Technologie ermöglichen soll. Derzeitige Pentium 4-, Celeron-, Athlon- und Duron-Prozessoren basieren auf einer 0,18 Micron-Technik. Neue CPUs mit dieser Technologie, könnten voraussichtlich 2005 produziert werden.

Das Verfahren, das starkes UV-Licht verwendet, hat seinen kritischen Punkt in der Entwicklungsphase etwa sechs Monate vor dem geplanten Zeitpunkt erreicht.

Die erste Maschine mit dem neuen Prozess zur Chipherstellung kommt in die Testphase. Das Forschungsunternehmen EUV LLC, das von der amerikanischen Regierung, den Chipherstellern Intel (Börse Frankfurt: INL), AMD (Börse Frankfurt: AMD) und anderen unterstützt wird, erwartet, dass die Herstellungstechnik funktioniert. Der Test soll etwa ein Jahr dauern. Danach seien Chips mit 0,07 Micron

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